SK하이닉스

무엇을 만들고, 어떤 직무를 꾸준히 뽑고, 그 일을 어디서 미리 해 볼 수 있는지.

메모리 한 사업입니다. 회사는 HBM·AI 서버용 D램·eSSD 같은 고부가 제품 중심이라고 설명합니다.

반복해서 뽑는 직무
  • 제조 – 양산기술 — 정기 신입 공채마다(3월 · 8~9월, 2025·2026 4회)
그 직무가 하는 일
양산기술 · 공정과 장비 두 축
  • 포토·식각·이온주입·확산·박막·세정·CMP 양산 공정의 운영과 조건 최적화
  • 장비 Set-up·개조·개선
우리 시뮬에서 연습할 곳
지난 채용 회차 보기 (4)
  • 2026.08.20 – 08.26양산기술
  • 2026.03.10 – 03.23양산기술
  • 2025.09.22 – 10.01양산기술
  • 2025.03.17 – 03.28양산기술

출처: 2026년은 회사 채용 사이트, 2025년은 채용 플랫폼·언론 보도 · 2026-10-17 기준

SK Careers ↗

SK하이닉스 자주 묻는 질문

SK하이닉스는 무엇을 만드나요?

메모리 한 사업입니다. 회사는 HBM·AI 서버용 D램·eSSD 같은 고부가 제품 중심이라고 설명합니다.

SK하이닉스는 어떤 직무를 꾸준히 뽑나요?

  • 제조 – 양산기술: 정기 신입 공채마다(3월 · 8~9월, 2025·2026 4회)

여러 회차에 다시 나온 직무만 적었습니다. 우리 공고 게시판에 올린 이 회사 공고는 «공정·개발» 트랙입니다.

SK하이닉스 양산기술 직무는 무슨 일을 하나요?

공정과 장비 두 축

  • 포토·식각·이온주입·확산·박막·세정·CMP 양산 공정의 운영과 조건 최적화
  • 장비 Set-up·개조·개선

SK하이닉스 공고에 나오는 용어는 무슨 뜻인가요?

포토(Photo)
빛으로 감광막에 회로 패턴을 그리는 공정입니다.
식각(Etch)
포토로 그린 패턴대로 막을 깎아 내는 공정입니다.
이온주입(IMP)
불순물 이온을 가속해 웨이퍼에 박아 넣어 전기 성질을 바꾸는 공정입니다.
확산(Diffusion)
고온 로(furnace)에서 산화막을 키우거나 불순물을 퍼뜨리는 공정입니다.
박막
웨이퍼 위에 올리는 얇은 막, 또는 그 막을 올리는 증착 공정입니다.
세정(Clean)
공정 사이사이 웨이퍼 표면의 파티클·오염을 씻어 내는 공정입니다.
CMP
화학 반응과 연마를 함께 써서 웨이퍼 표면을 평평하게 깎는 공정입니다.
Set-up(셋업)
새 장비를 설치하고 공정 조건까지 맞춰 양산에 쓸 수 있게 만드는 일입니다.
HBM
D램을 여러 층 쌓아 데이터 통로를 넓힌 고대역폭 메모리입니다. AI 가속기 옆에 붙습니다.
eSSD
데이터센터 서버에 들어가는 기업용 SSD입니다.

SK하이닉스 면접 준비는 어디서부터 하면 되나요?

공고의 담당업무를 먼저 읽고, 그 일을 직접 해 본 것처럼 설명할 수 있게 준비합니다.

  • 면접 미션 #01 Etch Depth Excursion — 이번 Lot 식각 깊이가 Spec을 벗어났다
  • 면접 미션 #02 Metal Line Residue — 라인 저항이 '좋아졌는데' 불량이다
  • 시뮬레이터 모듈 LPCVD · PECVD · Plasma Etching · Dopant Diffusion · Ion Implantation

면접 미션에서는 공고 담당업무와 같은 상황을 판단해 보고, 시뮬레이터 모듈에서는 공정 원리를 먼저 돌려 봅니다.

SK하이닉스는 언제 채용하나요?

확인한 회차

  • 2026.08.20 – 08.26 · 양산기술
  • 2026.03.10 – 03.23 · 양산기술
  • 2025.09.22 – 10.01 · 양산기술
  • 2025.03.17 – 03.28 · 양산기술

접수 기간은 회사 채용 사이트에서 확인하세요.

더 읽어보기

식각 면접 집중편 표지

식각 면접 집중편

건식과 습식, 이방성, 선택비, ICP와 CCP, 프로파일 불량

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공정엔지니어 면접, 판단을 말하는 법 표지

공정엔지니어 면접, 판단을 말하는 법

상황형 질문과 PT 면접을 6단계로 푸는 법

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수율과 SPC

수율 모델, 웨이퍼 맵 읽기, 관리도와 Cp·Cpk

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ARDE — 같은 15분인데 왜 좁은 비아만 덜 파일까 (ICP 비아홀 식각 실습) 표지

ARDE — 같은 15분인데 왜 좁은 비아만 덜 파일까 (ICP 비아홀 식각 실습)

지름만 0.5/1/2/4µm로 다른 비아홀을 같은 ICP 레시피로 15분 식각하면 깊이가 1040nm와 1550nm로 갈립니다. 종횡비 의존 식각(ARDE)의 세 기전, Si:SiO₂ 선택비 190:1로 버틴 하드마스크, source를 올리면 오히려 이온 에너지가 내려가는 ICP의 구조까지 11단계 미니팹 실습으로 정리했습니다.

마이크로로딩 효과 — 촘촘한 패턴은 왜 덜 파일까 (RIE 식각 실습) 표지

마이크로로딩 효과 — 촘촘한 패턴은 왜 덜 파일까 (RIE 식각 실습)

개구 폭은 2µm로 같은데 dense는 690nm, iso는 826nm까지 파입니다. 주변 패턴 밀도가 식각 깊이를 가르는 마이크로로딩 효과와, 이 차이를 프로파일로미터로는 왜 볼 수 없는지(팁 컨볼루션 267.9nm)를 미니팹 RIE 실습으로 정리했습니다.

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SiO₂ 하드마스크로 언더컷 만들기 — 습식 등방 식각 14단계 사용 가이드

세미팹AI 미니팹 습식 등방 언더컷(SiO₂ 하드마스크) 시나리오. BOE로 창을 열고 H₃PO₄로 Al을 등방 식각해 마스크 처마와 사발 캐비티를 만드는 과정을, 조절할 파라미터와 결과 읽는 법까지 정리한 사용 가이드입니다.

이 회사 공고로 연습하기 (1)

접수 기간은 공고 당시 기준입니다. 지금 모집 중인지는 회사 채용 사이트에서 확인하세요. 게시 내용의 정정·삭제 요청은 bandi@semifabai.com 로 보내 주세요. 확인 후 반영합니다.

2026.08.20 – 08.262026 하반기 신입공정·개발

SK하이닉스 · 양산기술 (Etch 공정)

제조 · 양산기술 (Manufacturing Technology) · Manufacturing Technology Engineer (Etch)

이 직무가 하는 일 (담당업무 4줄 중 2줄)
  • · 개발이 끝난 공정을 넘겨받아 수율과 품질을 안정적으로 유지·향상 — 양산성 확보를 위한 단위 공정(Etch) 최적화공고
  • · 양산 라인에서 매일 발생하는 공정 변동을 데이터로 추적하고 원인을 잡아 생산성을 끌어올림현직자 소개 글
Etch양산기술공정 변동 추적수율·품질 안정화데이터 분석단위 공정 최적화
무료 체험 미션 — 이용권 없이 바로
무료 #00Trench Depth Excursion — PM 끝내고 넘겨받은 챔버, 첫 Lot 이 얕다
이 공고를 준비하는 면접 실습 미션
🔒 패스권
  • #01Etch Depth Excursion — 이번 Lot 식각 깊이가 Spec을 벗어났다패스권으로 열림
  • #02Metal Line Residue — 라인 저항이 '좋아졌는데' 불량이다패스권으로 열림
  • #03Defect Excursion — 증착 Lot의 들뜸, 원인은 두 스텝 전에 있다준비 중
  • #04Condition Setup — 규격이 바뀐 트렌치, 기존 조건으로는 안 된다준비 중
  • #05Profile Excursion — 깊이는 얼추 나오는데 측벽이 무너졌다준비 중

패스권이 있으면 열립니다.

패스권 보기 →

이 공고 설명은 SemiFab AI가 공고 원문의 문맥을 읽고 추론한 해석이며, 그 결과에 따라 가상 미션을 설계했습니다. 지원 조건·일정은 원문에서 확인하세요. SemiFab AI는 해당 회사와 관계가 없습니다. 회사명은 어느 공고를 해석했는지 밝히기 위해서만 씁니다.

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