삼성전자 DS부문

무엇을 만들고, 어떤 직무를 꾸준히 뽑고, 그 일을 어디서 미리 해 볼 수 있는지.

메모리(DRAM·NAND·HBM)가 반도체(DS) 매출의 대부분입니다.

반복해서 뽑는 직무
  • 반도체공정기술 — 3급 신입 공채마다(2025·2026 상·하반기 4회)
  • 설비기술 — 공채 4회 중 3회(2026 하반기엔 없음)
그 직무가 하는 일
반도체공정기술
  • 8대 공정(Photo·Etch·Clean·CMP·Diffusion·IMP·Metal·CVD)의 개발·최적화
  • 측정 데이터 모니터링
  • 불량 해결과 공정 조건 표준화
설비기술
  • 설비 PM·BM과 개조·개선
  • 온도·압력·플라즈마·가스 유량 같은 하드웨어 제어
우리 시뮬에서 연습할 곳
지난 채용 회차 보기 (4)
  • 2026.09.08 – 09.15반도체공정기술
  • 2026.03.10 – 03.17반도체공정기술 · 설비기술
  • 2025.08.27 – 09.03반도체공정기술 · 설비기술
  • 2025.03.10 – 03.17반도체공정기술 · 설비기술

출처: 2026 하반기는 회사 직무기술서, 나머지는 채용 플랫폼 · 2026-10-17 기준

삼성 DS 직무소개 — 반도체공정기술 ↗

삼성전자 DS부문 자주 묻는 질문

삼성전자 DS부문은 무엇을 만드나요?

메모리(DRAM·NAND·HBM)가 반도체(DS) 매출의 대부분입니다.

삼성전자 DS부문은 어떤 직무를 꾸준히 뽑나요?

  • 반도체공정기술: 3급 신입 공채마다(2025·2026 상·하반기 4회)
  • 설비기술: 공채 4회 중 3회(2026 하반기엔 없음)

여러 회차에 다시 나온 직무만 적었습니다. 우리 공고 게시판에 올린 이 회사 공고는 «공정·개발» 트랙입니다.

삼성전자 DS부문 반도체공정기술 직무는 무슨 일을 하나요?

  • 8대 공정(Photo·Etch·Clean·CMP·Diffusion·IMP·Metal·CVD)의 개발·최적화
  • 측정 데이터 모니터링
  • 불량 해결과 공정 조건 표준화

삼성전자 DS부문 설비기술 직무는 무슨 일을 하나요?

  • 설비 PM·BM과 개조·개선
  • 온도·압력·플라즈마·가스 유량 같은 하드웨어 제어

삼성전자 DS부문 공고에 나오는 용어는 무슨 뜻인가요?

CVD
기체 원료를 웨이퍼 위에서 반응시켜 얇은 막을 쌓는 증착 방법입니다.
포토(Photo)
빛으로 감광막에 회로 패턴을 그리는 공정입니다.
식각(Etch)
포토로 그린 패턴대로 막을 깎아 내는 공정입니다.
이온주입(IMP)
불순물 이온을 가속해 웨이퍼에 박아 넣어 전기 성질을 바꾸는 공정입니다.
확산(Diffusion)
고온 로(furnace)에서 산화막을 키우거나 불순물을 퍼뜨리는 공정입니다.
세정(Clean)
공정 사이사이 웨이퍼 표면의 파티클·오염을 씻어 내는 공정입니다.
CMP
화학 반응과 연마를 함께 써서 웨이퍼 표면을 평평하게 깎는 공정입니다.
금속배선(Metal)
소자끼리 전기가 흐르도록 금속 도선을 깔아 잇는 공정입니다.
플라즈마
기체에 전기 에너지를 넣어 이온·전자로 쪼갠 상태입니다. 식각·증착에서 반응을 돕습니다.
PM
고장 나기 전에 정해진 주기로 부품을 점검·교체하는 예방정비입니다.
BM
고장이 난 뒤 원인을 찾아 고치는 사후정비입니다.
DRAM
전원이 켜진 동안 데이터를 빠르게 읽고 쓰는 메모리입니다. 컴퓨터의 작업 공간으로 씁니다.
NAND
전원이 꺼져도 데이터가 남는 메모리입니다. SSD·휴대폰 저장장치에 씁니다.
HBM
D램을 여러 층 쌓아 데이터 통로를 넓힌 고대역폭 메모리입니다. AI 가속기 옆에 붙습니다.

삼성전자 DS부문 면접 준비는 어디서부터 하면 되나요?

공고의 담당업무를 먼저 읽고, 그 일을 직접 해 본 것처럼 설명할 수 있게 준비합니다.

  • 면접 미션 #01 Etch Depth Excursion — 이번 Lot 식각 깊이가 Spec을 벗어났다
  • 시뮬레이터 모듈 LPCVD · PECVD · Plasma Etching · Dopant Diffusion · Ion Implantation

면접 미션에서는 공고 담당업무와 같은 상황을 판단해 보고, 시뮬레이터 모듈에서는 공정 원리를 먼저 돌려 봅니다.

삼성전자 DS부문은 언제 채용하나요?

확인한 회차

  • 2026.09.08 – 09.15 · 반도체공정기술
  • 2026.03.10 – 03.17 · 반도체공정기술 · 설비기술
  • 2025.08.27 – 09.03 · 반도체공정기술 · 설비기술
  • 2025.03.10 – 03.17 · 반도체공정기술 · 설비기술

접수 기간은 회사 채용 사이트에서 확인하세요.

더 읽어보기

삼성전자 PT 면접 유형별 연습 문제 10선 표지

삼성전자 PT 면접 유형별 연습 문제 10선

시나리오형·데이터 해석형·조건 선택형·개선안형

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반도체 8대 공정, 순서에 이유가 있다 표지

반도체 8대 공정, 순서에 이유가 있다

두 가지 8대 공정, 열 예산, FEOL과 BEOL

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진공·설비 기초 표지

진공·설비 기초

펌프와 게이지, 압력 제어, MFC, 리크와 RF 매칭

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수율과 SPC 표지

수율과 SPC

수율 모델, 웨이퍼 맵 읽기, 관리도와 Cp·Cpk

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반도체 8대 공정 순서 — 왜 이 순서이고 무엇을 조절하나 표지

반도체 8대 공정 순서 — 왜 이 순서이고 무엇을 조절하나

반도체 8대 공정(웨이퍼 제조·산화·포토·식각·증착&이온주입·금속배선·EDS·패키징)의 순서를 먼저 정리하고, 왜 이 순서인지 열예산 개념으로 풀어 각 공정의 핵심 변수와 반복 루프 구조를 짚습니다. 시뮬레이터로 어디까지 직접 다룰 수 있는지도 함께 보는 반도체 공정 입문 가이드입니다.

설비 면접 기술 질문 표지

설비 면접 기술 질문

전기·회로도, 공유압과 시퀀스, 진공·리크, RF, 예방정비

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이 회사 공고로 연습하기 (1)

접수 기간은 공고 당시 기준입니다. 지금 모집 중인지는 회사 채용 사이트에서 확인하세요. 게시 내용의 정정·삭제 요청은 bandi@semifabai.com 로 보내 주세요. 확인 후 반영합니다.

2026.09.08 – 09.152026 하반기 3급 신입공정·개발

삼성전자 DS부문 · 반도체공정기술 (Etch · Diffusion · CVD)

공정기술 (Process Engineering) · Semiconductor Process Engineer (Etch · Diffusion · CVD)

이 직무가 하는 일 (담당업무 4줄 중 2줄)
  • · 8대 공정기술(Photo·Etch·Clean·CMP·Diffusion·IMP·Metal·CVD) 개발·고도화로 생산성·품질·수율 향상 — 입사 후 단위공정(Etch·Diffusion 등) 전문가로 배치공고 + 현직자 글
  • · 신제품 양산을 위한 공정 최적화, 수율·품질 개선을 위한 공정 조건 표준화공고
Dry EtchDiffusion · 산화설비 파라미터 모니터링Spec 관리Data 모니터링산포 개선공정 조건 표준화8대 공정
무료 체험 미션 — 이용권 없이 바로
무료 #00Trench Depth Excursion — PM 끝내고 넘겨받은 챔버, 첫 Lot 이 얕다
이 공고를 준비하는 면접 실습 미션
🔒 패스권
  • #01Etch Depth Excursion — 이번 Lot 식각 깊이가 Spec을 벗어났다패스권으로 열림
  • #06Oxide Thickness Excursion — 레시피는 그대로인데 게이트 산화막이 두꺼워졌다준비 중
  • #07Particle Excursion — 박막 증착 뒤 파티클이 급증했다준비 중

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이 공고 설명은 SemiFab AI가 공고 원문의 문맥을 읽고 추론한 해석이며, 그 결과에 따라 가상 미션을 설계했습니다. 지원 조건·일정은 원문에서 확인하세요. SemiFab AI는 해당 회사와 관계가 없습니다. 회사명은 어느 공고를 해석했는지 밝히기 위해서만 씁니다.

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