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    <title>반디스터디 블로그 — SemiFab AI</title>
    <link>https://semifabai.com/blog</link>
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    <description>반디스터디 블로그 — 공정 개념을 설명하고 해당 시뮬레이터로 이어지는 글 모음.</description>
    <language>ko</language>
    <lastBuildDate>Tue, 27 Oct 2026 00:00:00 GMT</lastBuildDate>
    <item>
      <title>반도체 식각 공정 — 건식·습식 차이와 선택비·이방성으로 보는 식각의 원리</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/semiconductor-etching-process</link>
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      <pubDate>Tue, 27 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 식각 공정은 포토로 그린 패턴대로 필요 없는 막을 골라 깎아 내는 공정입니다. 건식(플라즈마)·습식 식각의 차이, 식각률·선택비·이방성 세 숫자, 플라즈마 식각이 수직으로 깎는 원리(이온·라디칼·측벽 보호막), RIE·CCP·ICP, 종말점 검출과 오버에치까지 질문 순서대로 정리합니다.</description>
      <category>반도체 식각 공정</category>
      <category>건식 식각</category>
      <category>습식 식각</category>
      <category>선택비</category>
      <category>이방성</category>
      <category>플라즈마 식각</category>
      <category>RIE</category>
    </item>
    <item>
      <title>반도체 8대 공정 순서 — 왜 이 순서이고 무엇을 조절하나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/semiconductor-8-major-processes</link>
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      <pubDate>Thu, 21 May 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 8대 공정(웨이퍼 제조·산화·포토·식각·증착&amp;이온주입·금속배선·EDS·패키징)의 순서를 먼저 정리하고, 왜 이 순서인지 열예산 개념으로 풀어 각 공정의 핵심 변수와 반복 루프 구조를 짚습니다. 시뮬레이터로 어디까지 직접 다룰 수 있는지도 함께 보는 반도체 공정 입문 가이드입니다.</description>
      <category>반도체 8대 공정</category>
      <category>반도체 공정 순서</category>
      <category>반도체 공정 입문</category>
      <category>산화 포토 식각 증착</category>
      <category>열예산</category>
      <category>반도체 교육</category>
    </item>
    <item>
      <title>반도체 증착 공정 PVD CVD ALD 차이 — 단차피복·온도·속도로 고르는 법</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/semiconductor-deposition-pvd-cvd-ald</link>
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      <pubDate>Fri, 23 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 증착 공정의 세 갈래 PVD·CVD·ALD 차이를 정리했습니다. 스퍼터·증발, LPCVD·PECVD, ALD 사이클이 막을 쌓는 방식과 같은 트렌치를 덮었을 때의 단차피복(약 30~40% · 70~90% · 100%), 공정 온도와 속도로 어떤 증착을 고르는지 시뮬레이터 화면과 함께 설명합니다.</description>
      <category>반도체 증착 공정</category>
      <category>PVD</category>
      <category>CVD</category>
      <category>ALD</category>
      <category>단차피복</category>
      <category>스퍼터</category>
      <category>PECVD</category>
    </item>
    <item>
      <title>반도체 공정 실습 — 클린룸·팹에서는 무엇을 하고, 팹 없이는 어디까지 될까</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/semiconductor-process-practice</link>
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      <pubDate>Thu, 22 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 공정 실습에서 실제로 하는 일을 단계별로 정리했습니다. 클린룸 팹 실습의 세정·산화·포토·식각·증착·측정마다 확인하는 값, 실습이 가르치는 예측→계측→원인 추적 루프, 팹 실습이 어려운 이유, 그리고 웹 시뮬레이터로 어디까지 대신할 수 있는지를 다룹니다.</description>
      <category>반도체 공정 실습</category>
      <category>반도체 클린룸</category>
      <category>반도체 팹</category>
      <category>반도체 공정 교육</category>
      <category>반도체 8대 공정</category>
      <category>계측</category>
    </item>
    <item>
      <title>Decision Lab #00 안내 — 무료 체험 미션 「PM 끝내고 넘겨받은 챔버, 첫 Lot 이 얕다」, 15분 동안 무엇을 하게 되나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-mission-00-trial</link>
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      <pubDate>Sat, 17 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 공장을 모르는 사람을 위한 무료 체험 미션 #00 Trench Depth Excursion 안내. Lot·슬롯·측정 웨이퍼·Spec이 무슨 뜻인지, 「숫자 하나」로 판단하면 왜 위험한지, 화면의 7단계에서 무엇을 누르고 무엇을 쓰는지, 어떤 틀로 생각하면 되는지를 한 편에 모았습니다. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 취업</category>
      <category>공정 엔지니어</category>
      <category>플라즈마 식각</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
      <category>무료 체험</category>
      <category>미션 안내</category>
    </item>
    <item>
      <title>FSE Decision Lab #00 안내 — 「반사파 알람이 반복된다」, 서비스 엔지니어로 15분 동안 무엇을 하게 되나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-fse-00-rf-reflected</link>
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      <pubDate>Sun, 18 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 장비를 처음 다뤄 보는 사람을 위한 기술직(Field Service Engineer) 무료 체험 미션 #00 RF Reflected Power Alarm 안내. RF 발생기·매처·반사파가 무슨 뜻인지, 현장에서 확인하고 잠그고 직접 열어 점검하고 원인을 고르고 작업대에서 고치고 검증하고 보고하는 흐름, 잠금(LOTO)이 왜 먼저인지, 복구가 늦어질 때 누구에게 무엇을 알리는지 모았습니다. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 취업</category>
      <category>장비 엔지니어</category>
      <category>FSE</category>
      <category>CS 엔지니어</category>
      <category>설비 엔지니어</category>
      <category>RF</category>
      <category>플라즈마 식각</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
      <category>무료 체험</category>
      <category>미션 안내</category>
    </item>
    <item>
      <title>Decision Lab #07 안내 — 「증착 직후 입자가 늘었다」가 무슨 상황이고, 30분 동안 무엇을 하게 되나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-mission-07-particle</link>
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      <pubDate>Thu, 15 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 공장을 모르는 사람을 위한 미션 #07 Particle Excursion 안내. PECVD 가 무엇인지, 파티클을 어떻게 세고 왜 「어디서 왔나」가 먼저인지, 결함 맵·모니터 웨이퍼·성분 분석이 각각 무엇을 말하는지, 화면의 7단계에서 무엇을 누르고 쓰는지, 출처를 가르는 틀까지. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 취업</category>
      <category>공정 엔지니어</category>
      <category>PECVD</category>
      <category>박막 증착</category>
      <category>파티클</category>
      <category>결함 검사</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
      <category>미션 안내</category>
    </item>
    <item>
      <title>Decision Lab #06 안내 — 「레시피는 그대로인데 산화막이 두꺼워졌다」가 무슨 상황이고, 30분 동안 무엇을 하게 되나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-mission-06-oxide-thickness</link>
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      <pubDate>Tue, 13 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 공장을 모르는 사람을 위한 미션 #06 Oxide Thickness Excursion 안내. 게이트 산화가 무엇인지, 산화로와 모니터 웨이퍼가 어떻게 돌아가는지, 산화막 두께를 왜 C-V 로 재는지, 「장비는 세팅대로 돌았다고 말하는데 결과가 다르다」가 왜 이 미션의 핵심인지, 화면의 7단계에서 무엇을 누르고 쓰는지, 기록을 대조하는 틀까지. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 취업</category>
      <category>공정 엔지니어</category>
      <category>열산화</category>
      <category>확산 공정</category>
      <category>C-V</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
      <category>미션 안내</category>
    </item>
    <item>
      <title>Process Engineer Decision Lab 사용법 — 30분 안에 원인을 찾고 라인을 살리는 7단계</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-guide</link>
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      <pubDate>Thu, 08 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>취업 챌린지 「Decision Lab」의 화면을 처음 여는 사람을 위한 안내. 브리핑·관찰·데이터 카드·가설·점검·브리지·리포트의 7단계가 무엇을 묻는지, 카드 모드와 개략도 모드의 차이, 면접관 선택, 리포트를 읽는 법까지. 정답은 없고 사용법만 있습니다.</description>
      <category>반도체 취업</category>
      <category>공정 엔지니어</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
      <category>미니팹</category>
      <category>면접 준비</category>
    </item>
    <item>
      <title>Decision Lab #01 안내 — 「식각 깊이가 20% 얕게 나왔다」는 게 무슨 상황이고, 30분 동안 무엇을 하게 되나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-mission-01-etch-depth</link>
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      <pubDate>Fri, 09 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 공장을 모르는 사람을 위한 미션 #01 Etch Depth Excursion 안내. Lot·레시피·baseline·Spec이 무슨 뜻인지, 「같은 레시피인데 결과가 다르다」가 왜 사건인지, 화면의 7단계에서 무엇을 누르고 무엇을 쓰는지, 어떤 틀로 생각하면 되는지를 한 편에 모았습니다. 답은 없습니다 — 상황과 절차와 생각하는 법만 있습니다.</description>
      <category>반도체 취업</category>
      <category>공정 엔지니어</category>
      <category>플라즈마 식각</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
      <category>미션 안내</category>
    </item>
    <item>
      <title>Decision Lab #02 안내 — 「저항이 좋아졌는데 불량이다」는 게 무슨 말이고, 30분 동안 무엇을 하게 되나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-mission-02-metal-line</link>
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      <pubDate>Fri, 09 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 공장을 모르는 사람을 위한 미션 #02 Metal Line Residue 안내. 금속 배선을 플라즈마로 깎는 공정이 무엇인지, 라인 저항이 왜 관리 지표인지, 「낮아졌는데 왜 불량인가」의 답이 되는 SPC 관리 한계가 무엇인지, 화면의 7단계에서 무엇을 누르고 쓰는지, 장비 로그와 측정 결과를 함께 읽는 틀까지. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 취업</category>
      <category>공정 엔지니어</category>
      <category>금속 식각</category>
      <category>RIE</category>
      <category>SPC</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
      <category>미션 안내</category>
    </item>
    <item>
      <title>Decision Lab #03 안내 — 「증착에서 난 들뜸, 원인은 두 스텝 전」이 무슨 상황이고, 30분 동안 무엇을 하게 되나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-mission-03-defect</link>
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      <pubDate>Fri, 09 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 공장을 모르는 사람을 위한 미션 #03 Defect Excursion 안내. 세정 → 산화 → 금속 증착으로 이어지는 공정 사슬이 무엇인지, 막 들뜸과 시트저항이 왜 같이 튀는지, 「증상이 난 스텝이 원인 스텝이 아닐 수 있다」가 왜 이 미션의 핵심인지, 화면의 7단계에서 무엇을 누르고 쓰는지, 앞 스텝의 기록을 대조하는 틀까지. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 취업</category>
      <category>공정 엔지니어</category>
      <category>세정</category>
      <category>스퍼터 증착</category>
      <category>결함</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
      <category>미션 안내</category>
    </item>
    <item>
      <title>Decision Lab #04 안내 — 「고장이 아닌데 조건을 새로 잡아야 한다」는 게 무슨 상황이고, 30분 동안 무엇을 하게 되나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-mission-04-condition-setup</link>
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      <pubDate>Fri, 09 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 공장을 모르는 사람을 위한 미션 #04 Condition Setup 안내. 앞의 세 미션과 달리 장비는 정상이고 고칠 것이 없습니다. 규격이 바뀌어 기존 양산 조건(POR)이 더는 맞지 않는 상황이 무엇인지, 네 가지 규격을 동시에 만족한다는 것이 왜 어려운지, 화면의 7단계에서 무엇을 누르고 쓰는지, 조건 후보를 비교하고 하나를 승인하는 틀까지. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 취업</category>
      <category>공정 엔지니어</category>
      <category>공정 조건</category>
      <category>트렌치 식각</category>
      <category>트레이드오프</category>
      <category>Decision Lab</category>
      <category>미션 안내</category>
    </item>
    <item>
      <title>Decision Lab #05 안내 — 「깊이는 됐는데 측벽이 무너졌다」는 게 무슨 상황이고, 30분 동안 무엇을 하게 되나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-mission-05-profile</link>
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      <pubDate>Fri, 09 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>반도체 공장을 모르는 사람을 위한 미션 #05 Profile Excursion 안내. 트렌치의 측벽각이 왜 깊이만큼 중요한 규격인지, 「깊이는 얼추 나왔는데 측벽이 기울었다」가 왜 사건인지, 화면의 7단계에서 무엇을 누르고 쓰는지, 깊이와 측벽각이 같은 방향으로 움직였는지부터 보는 틀까지. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 취업</category>
      <category>공정 엔지니어</category>
      <category>플라즈마 식각</category>
      <category>측벽 프로파일</category>
      <category>SEM</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
      <category>미션 안내</category>
    </item>
    <item>
      <title>산화로 카드 읽기 — 온도 로그·공정 시간·모니터 두께는 각각 무엇을 말하나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-furnace-cards</link>
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      <pubDate>Tue, 13 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>열산화 미션의 카드는 플라즈마·습식 장비와 모양이 다릅니다. 퍼니스 온도 로그(두 종류의 열전대), 공정 시간 로그, 모니터 웨이퍼 두께 측정. 각 카드가 산화로의 어느 계기에서 나온 기록인지, 온도 제어 루프에서 SP 와 PV 를 읽는 법, 산화막 두께가 어디에 나타나는지를 설명합니다. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 산화</category>
      <category>열산화</category>
      <category>퍼니스</category>
      <category>열전대</category>
      <category>C-V</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
    </item>
    <item>
      <title>압력 제어 루프 카드 읽기 — 게이지 표시값·스로틀 개도·공정 알람은 각각 무엇을 말하나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-pressure-control-cards</link>
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      <pubDate>Thu, 08 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>식각 장비의 챔버 압력은 게이지가 읽고, 컨트롤러가 세팅과 비교하고, 스로틀 밸브가 배기를 조여 맞춥니다. Decision Lab 의 압력 로그·밸브 개도 로그·공정 알람 로그 카드가 이 루프의 어느 자리에서 나온 기록인지, 세 카드를 어떤 순서로 교차해 읽는지 설명합니다. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 공정</category>
      <category>압력 제어</category>
      <category>APC</category>
      <category>스로틀 밸브</category>
      <category>진공 게이지</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
    </item>
    <item>
      <title>RF 카드 읽기 — 전달 파워 SP/PV·DC 바이어스·매처 위치는 각각 무엇을 말하나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-rf-cards</link>
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      <pubDate>Thu, 08 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>플라즈마 식각 장비의 RF 로그 카드에는 전달 파워, DC 자기 바이어스, 매처 Load/Tune 위치가 함께 찍힙니다. 이 네 숫자가 RF 체인의 어느 자리에서 나오는지, ICP(소스·바이어스 분리)와 CCP(단일 파워)에서 무엇이 다른지, 카드 혼자서는 왜 원인을 못 가르는지를 설명합니다. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 공정</category>
      <category>RF 플라즈마</category>
      <category>매처</category>
      <category>DC 바이어스</category>
      <category>ICP</category>
      <category>RIE</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
    </item>
    <item>
      <title>계측 카드 읽기 — 4단자 서펜타인 저항·프로파일러 단차·SEM 단면이 각각 말하는 것</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-metrology-cards</link>
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      <pubDate>Thu, 08 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>Decision Lab 의 측정 카드는 세 가지입니다. 4단자(Kelvin) 서펜타인 라인 저항, 프로파일러 단차, SEM 단면. 각 계기가 무엇을 재고 무엇을 재지 못하는지, 「마스크 포함/제외」 같은 기준면 표기가 왜 붙는지, 숫자보다 먼저 봐야 할 것이 무엇인지 설명합니다. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 계측</category>
      <category>4-point probe</category>
      <category>프로파일러</category>
      <category>SEM 단면</category>
      <category>라인 저항</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
    </item>
    <item>
      <title>습식 벤치 카드 읽기 — 약액 모니터·온도 로그·린스 로그·검사 이력은 각각 무엇을 말하나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/decision-lab-wet-bench-cards</link>
      <guid isPermaLink="true">https://semifabai.com/blog/decision-lab-wet-bench-cards</guid>
      <pubDate>Thu, 08 Oct 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>습식 세정(SC-1) 미션의 카드는 플라즈마 장비와 모양이 다릅니다. 약액 모니터, 온도 로그, 린스 로그, 파티클 검사 이력. 각 카드가 벤치의 어느 계기에서 나온 기록인지, 습식에서도 SP 와 PV 를 같은 눈으로 읽는 법, 세정 결과가 어디에 나타나는지를 설명합니다. 답은 없습니다.</description>
      <category>반도체 세정</category>
      <category>SC-1</category>
      <category>습식 공정</category>
      <category>파티클</category>
      <category>린스</category>
      <category>트러블슈팅</category>
      <category>Decision Lab</category>
    </item>
    <item>
      <title>ARDE — 같은 15분인데 왜 좁은 비아만 덜 파일까 (ICP 비아홀 식각 실습)</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/icp-via-hole-arde</link>
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      <pubDate>Sun, 20 Sep 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>지름만 0.5/1/2/4µm로 다른 비아홀을 같은 ICP 레시피로 15분 식각하면 깊이가 1040nm와 1550nm로 갈립니다. 종횡비 의존 식각(ARDE)의 세 기전, Si:SiO₂ 선택비 190:1로 버틴 하드마스크, source를 올리면 오히려 이온 에너지가 내려가는 ICP의 구조까지 11단계 미니팹 실습으로 정리했습니다.</description>
      <category>미니팹</category>
      <category>ICP 식각</category>
      <category>ARDE</category>
      <category>비아홀</category>
      <category>종횡비</category>
      <category>SiO₂ 하드마스크</category>
    </item>
    <item>
      <title>마이크로로딩 효과 — 촘촘한 패턴은 왜 덜 파일까 (RIE 식각 실습)</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/rie-microloading-iso-dense</link>
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      <pubDate>Sun, 30 Aug 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>개구 폭은 2µm로 같은데 dense는 690nm, iso는 826nm까지 파입니다. 주변 패턴 밀도가 식각 깊이를 가르는 마이크로로딩 효과와, 이 차이를 프로파일로미터로는 왜 볼 수 없는지(팁 컨볼루션 267.9nm)를 미니팹 RIE 실습으로 정리했습니다.</description>
      <category>미니팹</category>
      <category>RIE 식각</category>
      <category>마이크로로딩</category>
      <category>ARDE</category>
      <category>패턴 밀도</category>
      <category>프로파일로미터</category>
    </item>
    <item>
      <title>SiO₂ 하드마스크로 언더컷 만들기 — 습식 등방 식각 14단계 사용 가이드</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/wet-isotropic-undercut-hardmask</link>
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      <pubDate>Wed, 12 Aug 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>세미팹AI 미니팹 습식 등방 언더컷(SiO₂ 하드마스크) 시나리오. BOE로 창을 열고 H₃PO₄로 Al을 등방 식각해 마스크 처마와 사발 캐비티를 만드는 과정을, 조절할 파라미터와 결과 읽는 법까지 정리한 사용 가이드입니다.</description>
      <category>미니팹</category>
      <category>습식 식각</category>
      <category>등방 식각</category>
      <category>SiO₂ 하드마스크</category>
      <category>언더컷</category>
      <category>식각 선택비</category>
    </item>
    <item>
      <title>반디는 왜 &apos;LLM 챗봇&apos;이 아니라 &apos;Kernel 위의 에이전트&apos;로 설계됐나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/bandi-kernel-agent-design</link>
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      <pubDate>Tue, 04 Aug 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>세미팹AI의 반도체 공정 튜터 반디는 LLM 하나 붙인 챗봇이 아니라, 그 위에 Kernel 구조를 얹어 설계됐습니다. 상황·기억·상태를 관리하는 9개 관리자, 근거 기반 응답 원칙, 기본형·심화형 능력 맵과 로드맵까지 정리했습니다.</description>
      <category>반디</category>
      <category>세미팹AI</category>
      <category>LLM 에이전트</category>
      <category>Kernel 구조</category>
      <category>AI 반도체 튜터</category>
      <category>자율실험실</category>
    </item>
    <item>
      <title>반도체 계측 장비 5가지 — 만든 공정을 어떻게 확인하나</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/semiconductor-metrology-5-tools</link>
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      <pubDate>Tue, 14 Jul 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>단차계·광학현미경·4-Point Probe·LCR 미터·SEM. 미니팹에서 쓰는 계측 장비 5가지를 &quot;공정 조건으로 예측 → 장비로 실측 → 차이 분석&quot; 관점으로 정리합니다.</description>
      <category>반도체 계측</category>
      <category>반도체 공정 측정</category>
      <category>단차계</category>
      <category>SEM</category>
      <category>4-point probe</category>
      <category>미니팹</category>
    </item>
    <item>
      <title>LPCVD PECVD 차이 — 온도가 가르는 박막 증착 공정</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/lpcvd-vs-pecvd-temperature</link>
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      <pubDate>Thu, 21 May 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>같은 SiO₂인데 LPCVD는 400~800°C 고온 배치로, PECVD는 200~400°C 저온 플라즈마로 올립니다. Arrhenius 증착 속도와 thermal budget으로 두 CVD 박막 증착 공정의 차이와 선택 기준을 정리합니다.</description>
      <category>LPCVD</category>
      <category>PECVD</category>
      <category>CVD 박막 증착</category>
      <category>저온 증착</category>
      <category>thermal budget</category>
      <category>반도체 공정 시뮬레이션</category>
    </item>
    <item>
      <title>반도체 공정 시뮬레이터로 배우는 법 — 감각을 채우는 학습 가이드</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/simulator-based-semiconductor-training</link>
      <guid isPermaLink="true">https://semifabai.com/blog/simulator-based-semiconductor-training</guid>
      <pubDate>Thu, 21 May 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>책으로 반도체 공정을 배우면 식은 알아도 파라미터 감각이 비어 있습니다. 온도·도즈·압력을 직접 만지는 반도체 공정 시뮬레이터를 3단계 학습 흐름과 기관 수업 구성에 어떻게 끼워 넣을지, 모듈별 추천 학습 시간까지 정리합니다.</description>
      <category>반도체 공정 시뮬레이터</category>
      <category>반도체 교육</category>
      <category>반도체 공정 학습</category>
      <category>시뮬레이션 실습</category>
      <category>학습 가이드</category>
    </item>
    <item>
      <title>금속 리프트오프 미니 플로우 사용 가이드 — 11단계를 무엇을 보며 돌릴 것인가</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/minifab-metal-liftoff-mini-flow</link>
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      <pubDate>Tue, 28 Jul 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>세미팹AI 미니팹 Metal Lift-off Mini Flow. Si→SiO₂→Al 금속 라인(5µm)을 리프트오프(가법)로 만드는 11단계를, 각 단계에서 볼 것·결과 숫자 읽는 법·두 번째 실행부터의 실습 시나리오까지 정리한 사용 가이드입니다.</description>
      <category>미니팹</category>
      <category>반도체 공정 시나리오</category>
      <category>Metal Lift-off Mini Flow</category>
      <category>금속 리프트오프</category>
      <category>4점 탐침 면저항</category>
    </item>
    <item>
      <title>미니팹으로 돌려보는 첫 시나리오 — Metal Pattern Mini Flow 사용 가이드</title>
      <link>https://semifabai.com/blog/minifab-metal-pattern-mini-flow</link>
      <guid isPermaLink="true">https://semifabai.com/blog/minifab-metal-pattern-mini-flow</guid>
      <pubDate>Tue, 21 Jul 2026 00:00:00 GMT</pubDate>
      <description>세미팹AI 미니팹의 첫 시나리오 Metal Pattern Mini Flow. Si→SiO₂→Al 금속 라인(5µm) 구조를 13단계로 만들고 저항으로 검증하는 표준 팹 플로우의 목적·사용법·결과 리포트 읽는 법을 정리합니다.</description>
      <category>미니팹</category>
      <category>반도체 공정 시나리오</category>
      <category>Metal Pattern Mini Flow</category>
      <category>금속 패턴</category>
      <category>공정 흐름 실습</category>
    </item>
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